КТИ НП СО РАН. Разработки

"CLWS-300":

Лазерный генератор изображений

НАЗНАЧЕНИЕ
Cинтез прецизионных хромовых шаблонов или мастер-оригиналов элементов плоской двухмерной (2D) оптики.
Запись дифракционных структур на осесимметричных трехмерных (3D) оптических поверхностях.

ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ВОЗМОЖНОСТИ
• Синтез элементов дифракционной оптики диаметром до 280 мм
• Синтез высокоточных углоизмерительных структур
• Синтез злементов макромеханики

ПРИНЦИП ДЕЙСТВИЯ
Основан на формировании изображений сфокусированным лучом лазера в режиме кругового растрового сканирования за счет взаимодействия его с материалом в точно заданных участках рабочего поля установки. Высокая точность синтеза топологии элементов достигается за счет использования прецизионных систем управления (перемещениями и мощностью излучения) и режима записи т.н. "скрытых" изображений.

ОСОБЕННОСТИ
• большое рабочее поле
• высокое разрешение
• высокая точность формирования топологии элементов
• простота и дешевизна технологии
• возможность записи на двухмерных (2D) и трехмерных (3D) поверхностях
• наличие самонастраивающейся системы автофокусировки для поиска и захвата поверхности записи и
   удержания
• микрообъектива в положении наилучшей фокусировки
• фактор нестабильности не более 0.144 мкм, что позволяет синтезировать структуры диаметром 100 мм с
   погрешностью не более 0.6 угловой секунды, а структуры диаметром 280 мм - не более 0.2 угловой
   секунды
• Погрешность формирования на порядок ниже, чем с помощью X-Y генераторов изображений

КОММЕРЧЕСКИЕ ОБРАЗЦЫ СДАНЫ В ЭКСПЛУАТАЦИЮ:
• Германия: Институт технической оптики Штутгарского университета, Берлинский институт оптики
• Италия: Исследовательский центр ФИАТ
• Россия: Уральский оптико-механический завод г.Екатеринбург, ОАО "Геофизика-Космос" г.Москва
• Китай: Институт физики аэрокосмической корпорации, г.Ланчжоу

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Пространственное разрешение	до 1000 лин./мм
Разрешение по радиальной координате	не хуже 10 нм
Разрешение по угловой координате	не хуже 0.25 угл. с
Диапазон перемещения по вертикальной координате	до 25 мм
Погрешность автофокусировки	± 0.05 мкм
Светочувствительный слой	пленки хрома, фоторезист, халькогениды, LDW стекла
Материал подложки	стекло, кварц